VRTP-Kammern

Die beabsichtigte Beauftragung umfasst die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme von zwei neuen nicht gebrauchten Vakuumprozesskammern zur thermischen Behandlung von Wafern und Proben unter unterschiedlichen Gas-Atmosphären und im Vakuum mit sehr steilen Aufheizrampen bis 1200°C und Abkühlrampen (engl. VRTP). Die beiden Kammern können als eine Anlage mit zwei Prozesskammern oder als zwei Einzelanlagen mit jeweils einer Kammer angeboten werden, die die sehr steilen Aufheiz- und Abkühlrampen ausführen können. Die Maschinen werden für die thermische Bearbeitung von dünnen Schichten und die Prozessierung von mikro-/nanoelektronischen Bauteilen eingesetzt. Sie müssen mit CMOS-Standards kompatibel sein. Eine Kammer soll Wafer mit einem Durchmesser bis 200 mm prozessieren können. Die zweite Kammer soll Wafer und Proben bis zu einer Größe von mindestens 150 mm prozessieren können. Die Prozessierung muss so erfolgen können, dass die beiden Kammern unterschiedliche Kontaminationsklassen erfüllen. Die Anlage(n) soll im Reinraum der ISO-Klasse 6 (DIN EN ISO 14644-1) des Auftraggebers im ersten Stock seines Gebäudes in der Nöthnitzer Straße 64a, in 01187 Dresden stehen und muss die Anforderungen an diesen Reinraum insbe¬sondere die Partikelfreiheit und die noch verfügbaren Flächen dieses Reinraumes erfüllen.