HF Vapor Etcher
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Projektbeschreibung
HF Vapor Etcher
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1 LosThe planned HF vapor etcher will be dedicated to the fabrication of hybrid silicon photonics and superconducting electronics, enabling highly controlled and se-lective etching processes.
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Vergabeunterlagen
Noch keine Vergabeunterlagen verfügbar.
OCDS Standard Konform Technische Kapazität
- ISO 27001 ZertifizierungPFLICHT
Nachweis eines zertifizierten ISMS für den gesamten Projektzeitraum.
Nachweis erforderlich - Projektteam (Deutsch C1)PFLICHT
Sämtliche Kernmitglieder müssen Deutschkenntnisse auf C1-Niveau nachweisen.
Wirtschaftliche Eignung
- Referenzen (Öffentlicher Sektor)BEWERTET
Mindestens drei vergleichbare Projekte in Bundes- oder Landesbehörden in den letzten 5 Jahren.
Gewichtung: 40%