Molekularstrahlepitaxieanlage mit Möglichkeit der optischen Interferenzlithografie
Projektbeschreibung
Molekularstrahlepitaxieanlage mit Möglichkeit der optischen Interferenzlithografie
Lose
1 LosMolekularstrahlepitaxieanlage mit Möglichkeit der optischen Interferenzlithografie
KI-Analyse
KI-gestützte Dokumentenanalyse
Lassen Sie die KI die Vergabeunterlagen analysieren und strukturierte Informationen zu Fristen, Anforderungen und Bewertungskriterien extrahieren.
Vergabeunterlagen
Dokument 01 - Bewerbungs- und Vergabebedingungen der RUB.pdf
PDF • 45.5 KB
ZVB NRW Mit VOL B.pdf
PDF • 196.0 KB
512_EU_ZVB NRW Mit VOL B.pdf
PDF • 196.0 KB
513 Besondere Vertragsbedingungen TVgG NRW.docx
DOCX • 34.7 KB
521_EU_Eigenerklaerung_Ausschlussgruende.docx
DOCX • 29.2 KB
522_Eigenerklaerung_Mindestlohngesetz.docx
DOCX • 20.4 KB
522_Eigenerklaerung_Mindestlohngesetz.pdf
PDF • 136.8 KB
531_EU_Bewerber_Bietergemeinschaftserklaerung_0.docx
DOCX • 23.4 KB
532_EU_Eignungsleihe.docx
DOCX • 29.0 KB
533_EU_Verpflichtungserklaerung_NU.docx
DOCX • 28.6 KB
ANLAGE-Eigenerklärung-VO-2022-833_RUS.docx
DOCX • 16.0 KB
Dokument 02 - Angebotsvordruck.docx
DOCX • 54.8 KB
Dokument 03 - Leistungsverzeichnis.docx
DOCX • 42.2 KB
Dokument 00 - Aufforderung zur Angebotsabgabe.pdf
PDF • 301.0 KB
OCDS Standard Konform Technische Kapazität
- ISO 27001 ZertifizierungPFLICHT
Nachweis eines zertifizierten ISMS für den gesamten Projektzeitraum.
Nachweis erforderlich - Projektteam (Deutsch C1)PFLICHT
Sämtliche Kernmitglieder müssen Deutschkenntnisse auf C1-Niveau nachweisen.
Wirtschaftliche Eignung
- Referenzen (Öffentlicher Sektor)BEWERTET
Mindestens drei vergleichbare Projekte in Bundes- oder Landesbehörden in den letzten 5 Jahren.
Gewichtung: 40%