Das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST beabsichtigt die Beschaffung einer PVD-Beschichtungsanlage für die Abscheidung von Isolationsschichten und Hartstoffschichten mit den aufgeführten Eigenschaften (Los 1) und eine PECVD-Beschichtungsanlage für die Abscheidung von DLC-Schichten und Hartstoffschichten mit den aufgeführten Eigenschaften (Los 2).
PVD-Beschichtungsanlage – Los 1 Die Gruppe Mikro- und Sensortechnologie innerhalb der Abteilung Tribologie, Korrosion, Sensorik am Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST entwickelt dünnschichtbasierte Sensorik für tribologisch belastbare Einsatzfelder. Für die Herstellung von elektrischen Isolationsschichten und Hartstoffschichten wird eine PVD-Vakuumanlage benötigt (Los 1). Für die Herstellung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (DLC) und Modifikationen davon bzw. Hartstoffschichten wird eine PECVD-Vakuumanlage (Los 2) benötigt.
PECVD-Beschichtungsanlage – Los 2 Die Gruppe Mikro- und Sensortechnologie innerhalb der Abteilung Tribologie, Korrosion, Sensorik am Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST entwickelt dünnschichtbasierte Sensorik für tribologisch belastbare Einsatzfelder. Für die Herstellung von elektrischen Isolationsschichten und Hartstoffschichten wird eine PVD-Vakuumanlage benötigt (Los 1). Für die Herstellung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten (DLC) und Modifikationen davon bzw. Hartstoffschichten wird eine PECVD-Vakuumanlage (Los 2) benötigt.
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21.Muster Bürgschaft_PR1178404.pdf
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20.Muster Bereitschaftserklärung Bankbürgschaft_PR1178404.pdf
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17.Technische Wertung_PR1178404.xlsx
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12. Eigenerklärung Russland Sanktionen.pdf
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11.Zusätzliche Bestimmungen.pdf
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09.Nachhaltigkeitsstandards_NHS.pdf
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08.Mindestlohngesetz--MiLoG.pdf
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07.Eigenerklärung Nichtvorliegen Ausschlussgründe.pdf
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Nachweis eines zertifizierten ISMS für den gesamten Projektzeitraum.
Sämtliche Kernmitglieder müssen Deutschkenntnisse auf C1-Niveau nachweisen.
Mindestens drei vergleichbare Projekte in Bundes- oder Landesbehörden in den letzten 5 Jahren.