maskenloses UV-Direktlithographie-System
Projektbeschreibung
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2
KI-Analyse
KI-gestützte Dokumentenanalyse
Lassen Sie die KI die Vergabeunterlagen analysieren und strukturierte Informationen zu Fristen, Anforderungen und Bewertungskriterien extrahieren.
Vergabeunterlagen
Anlage 1 - Allgemeine Rahmenbedingungen.pdf
PDF • 270.6 KB
Anlage 2 - Leistungsverzeichnis.pdf
PDF • 249.4 KB
Anlage 3 - ZVB.pdf
PDF • 227.1 KB
Anlage 4.1 - Bietererklärung.pdf
PDF • 15.3 KB
Anlage 4.2 - Eigenerklärung zum Ausschreibungsverfahren.pdf
PDF • 106.7 KB
Anlage 5 - Eigenerklärung zu _ 123 GWB.pdf
PDF • 509.6 KB
Anlage 6 - Eigenerklärung zu _ 124 GWB.pdf
PDF • 493.9 KB
Anlage 7 - Eigenerklaerung_staatliche_Auftraggeber.pdf
PDF • 1.3 MB
Anlage 8 - Fremdfirmenordnung Universität Jena.pdf
PDF • 2.3 MB
Aufforderungssschreiben.pdf
PDF • 227.0 KB
Erlaeuterungen zur Anlage 7.pdf
PDF • 161.9 KB
_Hinweise von der e-Vergabe.txt
TXT • 1.1 KB
OCDS Standard Konform Technische Kapazität
- ISO 27001 ZertifizierungPFLICHT
Nachweis eines zertifizierten ISMS für den gesamten Projektzeitraum.
Nachweis erforderlich - Projektteam (Deutsch C1)PFLICHT
Sämtliche Kernmitglieder müssen Deutschkenntnisse auf C1-Niveau nachweisen.
Wirtschaftliche Eignung
- Referenzen (Öffentlicher Sektor)BEWERTET
Mindestens drei vergleichbare Projekte in Bundes- oder Landesbehörden in den letzten 5 Jahren.
Gewichtung: 40%